|
|
|
|
Å°¿öµå : |
|
|
¼Ò°³±Û |
¹ÝµµÃ¼ ¹× MEMS ±â¼ú |
¿ä¾à |
¹ÝµµÃ¼ ¹× MEMS ±â¼ú
¥°.¹ÝµµÃ¼
1.¹ÝµµÃ¼ÀÇ Á¤ÀÇ ¹ÝµµÃ¼´Â Àü±â°¡ ÅëÇÏ´Â µµÃ¼¿Í Àü±â°¡ ÅëÇÏÁö ¾Ê´Â ºÎµµÃ¼ÀÇ Áß°£ ¹°Áú·Î, Á¦ÀÛÀÚÀÇ Àǵµ¿¡ ÀÇÇØ µµÃ¼µµ µÉ ¼ö ÀÖ°í ºÎµµÃ¼µµ µÉ ¼ö ÀÖ´Â ¼ºÁúÀ» °¡Áø °ÍÀÌ Àִµ¥ ÀÌ°ÍÀ» ¹ÝµµÃ¼¶ó°í ºÎ¸¥´Ù.Àü±â¸¦ ÅëÇØ Áְųª ºûÀ» ºñÃç Áְųª ´Ù¸¥ ¹°ÁúÀ» ¼¯¾î ÁÖ´Â µî ¾î¶² ƯÁ¤ÇÑ Á¶°Ç¿¡¼ Àü±â°¡ ÅëÇÏ´Â ¹°ÁúÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
2. ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ±¸¼º ¹ÝµµÃ¼ ¹°Áú¿¡¼ Àü±â¸¦ ³ª¸£´Â ¹°Áú¿¡´Â ÀÚÀ¯ÀüÀÚ¿Í È¦(Hole:Á¤°ø, Áï ÀüÀÚ°¡ ºüÁø ÀÚ¸®)ÀÌ ÀÖ´Ù. À̶§ µµÇÎ(Doping: ºÒ¼ø¹° ÁÖÀÔ)¿¡ ÀÇÇØ Àüµµµµ¸¦ Á¶ÀýÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
2.1 Áø¼º ¹ÝµµÃ¼(Intrinsic Semiconductor) µµÃ¼¿Í ºÎµµÃ¼ÀÇ Áß°£ Á¤µµÀÇ Àü±â Àüµµ¼ºÀ» °¡Áö¸ç, ÁÖ±âÀ²Ç¥ 4Á·ÀÇ, °Ô¸£¸¶´½, ±Ô¼Ò µî °í ¼øµµ(99.9%)ÀÇ ¹°ÁúÀÌ´Ù. »ó¿Â¿¡¼´Â Àü±â Àüµµµµ°¡ ÀÛÁö¸¸, ºûÀ» Âذųª ¿Âµµ°¡ ³ô¾ÆÁö¸é ¿øÀڷκÎÅÍ ÀüÀÚ°¡ ¶³¾îÁ® ³ª¿Í Àü±â Àüµµµµ°¡ Áõ°¡ÇÏ¿© Àü±â ÀúÇ×Àº ÀÛ¾ÆÁø´Ù.
2.2 ºÒ¼ø¹° ¹ÝµµÃ¼(Extrinsic Semiconductor) °íÀ¯ ¹ÝµµÃ¼¿¡ ´Ù¸¥ ¿ø¼Ò¸¦ ¹Ì·® ÷°¡Çϸé, Àü±âÀüµµ¼ºÀÌ Áõ°¡ÇÏ°í °íÀ¯ÀÇ Àü±âÀû Ư¼ºÀ» ³ªÅ¸³½´Ù.
2.2.1 NÇü ¹ÝµµÃ¼ 4°¡ÀÎ °Ô¸£¸¶´½(Ge)À̳ª ½Ç¸®ÄÜ(Si)ÀÇ °áÁ¤¿¡ ±Ø¼Ò·®ÀÇ 5°¡ÀÎ ÀÎ(P), ºñ¼Ò(As), ¾ÈƼ¸ó(Sb)À» ¼Ò·® ÷°¡Çϸé, ºñ¼Ò´Â ÀüÀÚ¸¦ 5°³ °®°í ÀÖÀ¸³ª, ½Ç¸®ÄÜÀº 4°³À̹ǷΠºñ¼ÒÀÇ ¿øÀÚ 1°³´Â ÀÚÀ¯ÀüÀÚ°¡ µÇ¾î, °áÁ¤ ³»¿¡¼ ½±°Ô ¿òÁ÷ÀδÙ. ÀÌ¿Í °°ÀÌ ÀÚÀ¯ÀüÀÚ°¡ ¿©ºÐÀ¸·Î Á¸ÀçÇÏ´Â NegativeÀÇ ÀüÀÚ°¡ Carrier°¡ µÇ¹Ç·Î NÇü ¹ÝµµÃ¼¶ó ºÎ¸¥´Ù.
2.2.2 PÇü ¹ÝµµÃ¼ PÇü ¹ÝµµÃ¼¶õ 4Á· ¿ø¼ÒÀÎ ±Ô¼Ò, °Ô¸£¸¶´½ °áÁ¤¿¡ ½Ç¸®ÄÜÀ̳ª, °Ô¸£¸¶´½¿¡ Àεã(In), ¾Ë·ç¹Ì´½(Al) µîÀÇ 3°¡ ¿øÀÚ¸¦ ¼Ò·® ÷°¡Çϸé, ÀεãÀº ÀüÀÚ°¡ 3°³·Î ºÎÁ·Çϱ⠶§¹®¿¡ Á¤°ø(Hole)ÀÌ »ý±â°Ô µÈ´Ù. ÀÌ·¸°Ô µÇ¸é Àü±âÀüµµ¼ºÀÌ Ä¿Á®¼ ¾ç(+)ÀÇ ÀüÇÏ ¿î¹Ýü¸¦ °¡Áø´Ù.
|
|
|
|
|
À§ Á¤º¸¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ Áø½Ç¼º¿¡ ´ëÇÏ¿© º¸ÁõÇÏÁö ¾Æ´ÏÇϸç, ÇØ´ç Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ÀúÀ۱ǰú ±âŸ ¹ýÀû Ã¥ÀÓÀº ÀÚ·á µî·ÏÀÚ¿¡°Ô ÀÖ½À´Ï´Ù. À§ Á¤º¸¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ ºÒ¹ýÀû ÀÌ¿ë, ¹«´ÜÀüÀç¹× ¹èÆ÷´Â ±ÝÁöµÇ¾î ÀÖ½À´Ï´Ù. ÀúÀÛ±ÇħÇØ, ¸í¿¹ÈÑ¼Õ µî ºÐÀï¿ä¼Ò ¹ß°ß½Ã ÇÏ´ÜÀÇ ÀúÀÛ±Ç Ä§ÇØ½Å°í¸¦ ÀÌ¿ëÇØ Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù. |
|